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发布时间: 2023-11-14 16:17:41   来源: 极速体育nba

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  【聚集】负性光刻胶可使用于显现器材、半导体等范畴 我国职业开展面对应战

  近年来,受下流使用开发力度缺乏等要素约束,我国聚异戊二烯设备开工率较低,导致需求高度依靠进口。原资料供给缺乏为负性光刻胶职业开展带来必定应战。 光刻胶品种丰厚,依照化学反应机理和显影原理不同,可分为正性光刻胶和负性光刻胶两类

  【洞悉】纳米压印技能(NIL)在芯片制作范畴使用远景较好 我国商场参与者很多

  在芯片制作范畴,与传统光刻技能比较,纳米压印技能具有出产效率高、制作成本低一级优势,可用来制作DRAM、3D NAND等各种贮存芯片。 纳米压印技能(NIL)指将模板上的微纳结构转移到待加工资料上的技能,归于新式微纳加工技能